Vědci a studenti z Fyzikálního ústavu AV ČR a katedry fyziky FEL ČVUT vyvinuli metodu pro vytváření vzorů v tenké vrstvě vodíkovaného amorfního křemíku pomocí mikroskopu atomárních sil (AFM). Lokální expozice elektrickým polem pomocí vodivého hrotu vede k úniku atomů vodíku z vrstvy amorfního křemíku. Díky tomu dochází ke změně hustoty, elektrické vodivosti a dalších fyzikálních vlastností vrstvy. Vysoká přesnost mikroskopu AFM umožňuje vytvářet složité mikroskopické vzory, jejichž vlastnosti mohou být využívány jak přímo, tak k následnému selektivnímu růstu nebo samouspořádávání nanomateriálů pro aplikace ve fotonice, fotovoltaice nebo v senzorech. Související vědecký článek Ing. Jana Faita na téma „Complex nano-patterning of structural, optical, electrical and electron emission properties of amorphous silicon thin films by scanning probe“ byl na podzim minulého roku publikován v časopise Applied Surface Science. Práce nyní zaujala mediální tým nakladatelství Elsevier a nakladatelství o ní proto zařadilo zprávu na Elsevier Physics Twitter channel a umožnilo k publikaci volný přístup na následující tři měsíce.
